2025/09/16 (TUE)
電子材料への応用が期待される合金薄膜の高品質化に成功
OBJECTIVE.
立教大学理学部化学科の藤原宏平准教授と井川僚哉氏（博士前期課程学生）の研究成果が応用物理学系の国際学術誌 Journal of Applied Physics に掲載され、注目論文 Featured Article および Cover Image に選出されました。
著者名: Tomoya Ikawa and Kohei Fujiwara
論文タイトル: Epitaxial thin films of the kagome-lattice topological
semimetal CoSn grown using an ultrathin Co seed layer
雑誌名：Journal of Applied Physics
